Deskripsi Produk Telp:0917-3664600
Target pelat titanium adalah sepotong logam titanium padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam proses pengendapan uap fisik (PVD) atau sputtering untuk membuat film tipis atau pelapis pada berbagai permukaan.
Fitur Produk:
Ringan: Titanium dikenal dengan kepadatannya yang rendah, yang memberikan target pelat titanium keunggulan bobot yang signifikan dibandingkan banyak logam lainnya. Karakteristik ringan ini khususnya menguntungkan dalam industri dirgantara, otomotif, dan industri lainnya yang menginginkan pengurangan bobot untuk meningkatkan efisiensi bahan bakar, meningkatkan kinerja, dan meningkatkan muatan.
Ketahanan Erosi yang Sangat Baik: Target pelat titanium menunjukkan ketahanan yang luar biasa terhadap erosi dan keausan. Properti ini membuatnya cocok untuk aplikasi yang melibatkan aliran fluida berkecepatan tinggi, partikel abrasif, atau lingkungan yang keras, seperti pompa, katup, dan komponen dalam pemrosesan kimia serta industri minyak & gas.

Spesifikasi Telp:0917-3664600
| Nilai | Titanium murni |
| Ukuran | 5 cm x 5 cm, 10 cm x 10 cm, 15 cm x 15 cm, 20 cm x 20 cm dll |
| Permukaan | Permukaan cerah |
| Standar | ASTMB265 |
Gambar Produk Telp:0917-3664600



Keuntungan dari target sputtering pelat titanium
Selama PVD atau sputtering, berkas ion berenergi tinggi diarahkan ke target pelat titanium, yang menyebabkan atom dalam target terlontar dan bergerak menuju permukaan substrat. Atom-atom yang dikeluarkan ini mengendap pada permukaan substrat dan membentuk lapisan tipis atau lapisan.
Target pelat titanium banyak digunakan dalam industri seperti dirgantara, biomedis, elektronik, dan optik, antara lain karena sifat unik titanium, termasuk ketahanan terhadap korosi, biokompatibilitas, dan stabilitas mekanik dan termal yang sangat baik.
Daya rekat yang sangat baik: Lapisan tipis yang diendapkan dari target pelat titanium menunjukkan daya rekat yang baik pada berbagai substrat, memungkinkan produksi pelapis berkualitas tinggi dan lapisan tipis dengan sifat mekanik yang sangat baik.
Penerapan target pelat titanium
Target pelat titanium memiliki beberapa ciri khas yang membuatnya cocok untuk berbagai aplikasi.
1. Deposisi Film Tipis: Target sputtering pelat titanium sering digunakan dalam proses deposisi uap fisik (PVD) untuk mendepositkan film tipis ke substrat. Film tipis ini dapat digunakan untuk pelapis fungsional, seperti ketahanan aus, ketahanan korosi, atau tujuan dekoratif.
2. Manufaktur Semikonduktor: Dalam industri semikonduktor, target film tipis titanium digunakan dalam pembuatan sirkuit terpadu dan perangkat mikroelektronik lainnya. Mereka digunakan dalam proses sputtering untuk menyimpan lapisan titanium untuk berbagai aplikasi, termasuk lapisan penghalang, interkoneksi, dan lapisan kontak.
3. Energi Matahari: Target pelat titanium memainkan peran penting dalam produksi sel fotovoltaik dan panel surya. Mereka digunakan dalam sistem sputtering untuk menyimpan lapisan oksida konduktif transparan (TCO), seperti titanium oksida, yang meningkatkan efisiensi sel surya dengan meningkatkan transmisi cahaya dan konduktivitas listrik.
Pengepakan dan Pengiriman Telp:0917-3664600
Dalam dunia belanja online dan perdagangan global saat ini, paket dan pengiriman telah menjadi bagian integral dari pengalaman konsumen. Di perusahaan kami, kami memahami pentingnya pengiriman paket yang tepat waktu dan andal untuk memastikan kepuasan dan loyalitas pelanggan.
Kami bangga menawarkan layanan pengiriman paket yang cepat dan efisien kepada pelanggan kami yang berharga, baik domestik maupun internasional. Kami menawarkan berbagai pilihan pengiriman, termasuk pengiriman ekspres, standar, dan ekonomi untuk mengakomodasi berbagai kebutuhan dan anggaran. Apa pun metode pengiriman yang Anda pilih, kami menjamin paket Anda akan tiba tepat waktu dan dalam kondisi prima.

Bagaimana cara memilih target logam untuk proyek sputtering Anda?
Faktor-faktor berikut biasanya perlu dipertimbangkan ketika memilih target sputtering logam:
- Persyaratan Aplikasi: Pertama, penting untuk menentukan persyaratan aplikasi Anda. Target sputtering logam yang berbeda cocok untuk aplikasi yang berbeda, seperti deposisi film tipis, manufaktur perangkat elektronik, pelapis optik, dll. Memahami sifat bahan film dan persyaratan proses yang Anda perlukan dapat membantu mempersempit pilihan target Anda.
- Sifat fisik dan kimia: Pertimbangkan sifat fisik dan kimia bahan yang dibutuhkan, seperti titik leleh, konduktivitas termal, konduktivitas listrik, koefisien muai panas, dll. Sifat-sifat ini secara langsung akan mempengaruhi proses sputtering dan pertumbuhan, adhesi, dan sifat dari film.
Terkait lainnyatarget titanium.

Hubungi kami
Jalan Gaoxin No.11, Baoji, Shaanxi, PRChina
Telp: +86-0917- 3664600
Faks: +86-0917- 3664600
Whatsapp: +8618791798690
Surat:sales@tmsalloy.com
Tag populer: target logam pvd 99,9% target pelat titanium, Cina, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, grosir, massal, harga murah, untuk dijual, dalam stok, beli diskon, buatan China











